通过上面的介绍，我们在施工硬化地坪时，非常有必要用地坪抛光液进行抛光，因为地坪抛光液不单单只是提高地坪的光泽度，还能提高地面抗渗、防尘、抗污保洁的功能，让地坪更有质感的同时，也能更好的对地面进行养护。可以说硬化地坪使用抛光液进行抛光并非画蛇添足而是锦上添花，让硬化地坪的效果更上一层楼！

地坪抛光液的简单介绍

地坪抛光液也叫「混凝土抛光液」，可用于提升多种水泥基地面的光泽度和亮度。地坪抛光液使用方便且快捷，喷洒于固化地坪表面，配合上专业抛光垫进行高速抛光，即可改善白斑、花斑及色差等地面问题，使得地坪表面光泽度一致，达到光亮如镜的效果。

地坪抛光液的两种主要成分

地坪抛光液的设计思路是有迹可循的，讨论该材料的主要成分，我们可以联系上它的作用功效和施工方法。地坪抛光液的主要成分有两种，分别是「巴西蜡乳液」和「石蜡」，两者的详细介绍如下。

光液使用方法编辑

包括棘轮扳手、开口扳手，批咀、套筒扳手，六角扳手，螺丝刀等，铅锡合金、锌合金等金属产品经过研磨以后，再使用抛光剂配合振动研磨光饰机，滚桶式研磨光式机进行抛光。

1、抛光剂投放量为（根据不同产品的大小，光饰机的大小和各公司的产品光亮度要求进行适当配置）；

2、抛光时间：根据产品的状态来定；

3、抛光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。

化学机械抛光

这两个概念主要出半导体加工过程中，初的半导体基片（衬底片）抛光沿用机械抛光、例如氧化镁、氧化锆抛光等，但是得到的晶片表面损伤是极其严重的。直到60年代末，一种新的抛光技术——化学机械抛光技术（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了旧的方法。CMP技术综合了化学和机械抛光的优势：单纯的化学抛光，抛光速率较快，表面光洁度高，损伤低，平整性好，但表面平整度和平行度差，抛光后表面一致性差；单纯的机械抛光表面一致性好，表面平整度高，但表面光洁度差，损伤层深。化学机械抛光可以获得较为平整的表面，又可以得到较高的抛光速率，得到的平整度比其他方法高两个数量级，是能够实现全局平面化的有效方法。